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半导体刻章机


  

  性 能技 术 参 数

  激光波长1064nm

  激光功率50W

  脉冲频率0.5~50kHz

  扫描速度≤5000mm/s

  打标精度0.02mm

  最小字符0.30mm

  标准打标范围100mm×100mm

  刻章方式闭环水冷

  打标软件XFMARKING/WINXP(高速振镜式)

  工作环境温度:220C~300C,湿度:0~90%,不结露

  电源220VAC,50Hz,15A

  

 

  可雕刻金属及多种非金属材料。特别适合应用于一些要求标刻精细、精度高的场合。应用于电子元器件、五金制品、工具配件、集成电路(IC)、电工电器、手机通讯、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、塑胶按键、建材、PVC管材、PPR管材、医疗器械等行业。

  普通金属及合金(铁、铜、铝、镁、锌等所有金属),稀有金属及合金(金、银、钛),金属氧化物,特殊表面处理(磷化、铝阳极化、电镀表面),ABS料(电器用品外壳,日用品),油墨(透光按键、印刷制品),环氧树脂(电子元件的封装、绝缘层)。

  

 

  1、激光光束模式好,电光转换效率高,耗电少,免维护。

  2、寿命长:有些光电量测厂商把量测设备中激光的光源由最初的 He-Ne激光改成二极管激光,以取得最佳的机器寿命( He-Ne 激光寿命一般为 10^4 HR,而二极管激光寿命为 10^5HR ,相差十倍),特别适合现场长时间的操作。

  3、瞬间即可达到开关的作用,适宜通信用途。并且半导体激光打标机一开机很快便稳定下来,又很合适用电路调制其输出,比如可使用脉波调制法量测距离(而 He-Ne 激光打标机必须开机三十分钟后才稳定下来,这点是万万比不上半导体激光打标机了)。

  4、可得到各种波长:利用周期表中的Ⅲ/V族,例如砷化镓等化合物可制成二极管激光,当电流通过pn界面时,将因化合物的不同而发出各种可见激光及不可见激光。半导体激光只要改变组合元素的比例,便可改变不同的能量间隔,不同的能量间隔 , 提供了不同的输出波长,由于具有红外线及红色波长,在通信及量测上很容易与各种传感器配合而得到很广泛的用途。

  5、操作简单方便,打标质量精度高。

  6、机械性质方面:结构紧凑、坚固、体积小的优点

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